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Un buen precio. Horno de sinterización a presión de gas para materiales de aleación de precisión cerámica de carburo cementado a base de cobre de acero inoxidable en línea El video

Horno de sinterización a presión de gas para materiales de aleación de precisión cerámica de carburo cementado a base de cobre de acero inoxidable

Temperatura de trabajo: 1200-1800℃

Presión de los gases: 1-10MPa

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Un buen precio. Horno de recubrimiento CVD de carburo de silicio para el susceptor de grafito o el anillo de grabado en línea

Horno de recubrimiento CVD de carburo de silicio para el susceptor de grafito o el anillo de grabado

Detalles de empaquetado: Cajas de madera

Tiempo de entrega: Entre 5 y 6 meses

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Un buen precio. Horno CVD con recubrimiento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizable con temperatura de proceso de 700-1050 oC en línea

Horno CVD con recubrimiento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizable con temperatura de proceso de 700-1050 oC

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Un buen precio. Control de temperatura de precisión Tratamiento térmico al vacío Horno de brasado Máxima temperatura de trabajo 1200C Uniformidad de temperatura ≤±3 en línea

Control de temperatura de precisión Tratamiento térmico al vacío Horno de brasado Máxima temperatura de trabajo 1200C Uniformidad de temperatura ≤±3

Temperatura de trabajo máxima ((°C): 1200

Uniformidad de la temperatura ((°C): ≤ ± 3

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Un buen precio. Horno de recubrimiento por deposición química de vapor para herramientas de corte de carburo de tungsteno/cementado en línea

Horno de recubrimiento por deposición química de vapor para herramientas de corte de carburo de tungsteno/cementado

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Un buen precio. Fuego de sinterización a presión de gas de alta eficiencia energética para atmósfera de temperatura uniforme y enfriamiento rápido en línea El video

Fuego de sinterización a presión de gas de alta eficiencia energética para atmósfera de temperatura uniforme y enfriamiento rápido

Tiempo de enfriamiento: ≤1h/4h/5h/6h/8h ((Fuego vacío,refrigeración por sinterización Temperatura 1450-100°C) Temperatura de

Tamaño: Personalizado

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Un buen precio. Horno de la presión del vacío de la temperatura máxima 1600℃, tarifa el 98% de la colección de la cera del horno del HIP del sínter en línea

Horno de la presión del vacío de la temperatura máxima 1600℃, tarifa el 98% de la colección de la cera del horno del HIP del sínter

Nombre: horno de la presión del vacío

tarifa de la Cera-colección: el 98%

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Un buen precio. Horno de sinterización fácil de usar del vacío de la cerámica para el carburo cementado en línea

Horno de sinterización fácil de usar del vacío de la cerámica para el carburo cementado

Uso: horno de sinterización

Garantía: 1 año

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Un buen precio. Horno de deposición de vapor de vacío de alta temperatura con un rango máximo de temperatura de 1100 oC en línea El video

Horno de deposición de vapor de vacío de alta temperatura con un rango máximo de temperatura de 1100 oC

Reactor: 2 piezas

Temperatura máxima:: 1100℃

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Un buen precio. SIC carburo de silicio horno de tratamiento térmico de atmósfera protectora para sinterización al vacío a alta temperatura en línea El video

SIC carburo de silicio horno de tratamiento térmico de atmósfera protectora para sinterización al vacío a alta temperatura

Color de la pintura: Gris, azul, blanco, negro.

Vida útil de la cáscara del horno: 20 años

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Un buen precio. 1500C CVD SIC horno de crecimiento epitaxi para el crecimiento de carburo de silicio en 1000 * 1000 * 1500mm espacio efectivo en línea El video

1500C CVD SIC horno de crecimiento epitaxi para el crecimiento de carburo de silicio en 1000 * 1000 * 1500mm espacio efectivo

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

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Un buen precio. Horno avanzado de deposición de vapor CVD/CVI para recubrimiento de TiC TiN TiCN a-AL2O3 y K-AI2O3 a una temperatura de proceso de 700-1050 °C en línea

Horno avanzado de deposición de vapor CVD/CVI para recubrimiento de TiC TiN TiCN a-AL2O3 y K-AI2O3 a una temperatura de proceso de 700-1050 °C

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Un buen precio. Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso en línea

Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Un buen precio. Horno de recubrimiento CVD cerámico Honeycomb para temperatura de proceso de 700-1050C y neutralizar gas fuera de opción en línea

Horno de recubrimiento CVD cerámico Honeycomb para temperatura de proceso de 700-1050C y neutralizar gas fuera de opción

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Un buen precio. Horno de purificación industrial de alta temperatura para materiales de grafito en línea

Horno de purificación industrial de alta temperatura para materiales de grafito

Max.Temperatura de trabajo: 2400℃

Uniformidad de la temperatura: ≤±10℃

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Un buen precio. Horno de sinterización a presión de gas de cerámica especial con temperatura máxima de 2000 °C en línea

Horno de sinterización a presión de gas de cerámica especial con temperatura máxima de 2000 °C

Agente de formación: Parafina, PEG, caucho, etc.

Medida de la temperatura: W-Re 5/26 Termócouple+pirómetro infrarrojo

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