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1500C CVD SIC horno de crecimiento epitaxi para el crecimiento de carburo de silicio en 1000 * 1000 * 1500mm espacio efectivo

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

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Horno CVD con recubrimiento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizable con temperatura de proceso de 700-1050 oC

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Horno de recubrimiento por deposición química de vapor para herramientas de corte de carburo de tungsteno/cementado

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de sinterización a presión de gas de cerámica especial con temperatura máxima de 2000 °C

Agente de formación: Parafina, PEG, caucho, etc.

Medida de la temperatura: W-Re 5/26 Termócouple+pirómetro infrarrojo

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Horno de sinterización del metal del alto rendimiento con la función del desparafinado desparafinado/H2 del vacío

Nombre: Horno de sinterización del metal

Espacio eficaz: Modificado para requisitos particulares

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≤ industrial modificado para requisitos particulares ±5°C de la variación de la temperatura del horno de sinterización del diseño

Nombre: Horno de sinterización industrial

carburo cementado después de sinterizar: Porosidad: A00-A02

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Horno de alta temperatura 6/8h del ≤ del tiempo de enfriamiento, ≤ de proceso ±5°C de la variación de los temporeros del horno de sinterización

Nombre: Horno de sinterización del metal

Detalles de empaquetado: Embalaje de madera especial del caso

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Horno durable del tratamiento térmico del vacío con modo de la medida del termopar WRe5-26

Modo de la medida de la temperatura: Termopar WRe5-26

Nombre: Horno del tratamiento térmico del vacío

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Horno de sinterización fácil de usar del vacío de la cerámica para el carburo cementado

Uso: horno de sinterización

Garantía: 1 año

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Horno avanzado de deposición de vapor CVD/CVI para recubrimiento de TiC TiN TiCN a-AL2O3 y K-AI2O3 a una temperatura de proceso de 700-1050 °C

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de recubrimiento CVD cerámico Honeycomb para temperatura de proceso de 700-1050C y neutralizar gas fuera de opción

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de purificación industrial de alta temperatura para materiales de grafito

Max.Temperatura de trabajo: 2400℃

Uniformidad de la temperatura: ≤±10℃

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Horno de aluminización de vapor químico 900-1050C personalizable con codificación Hf Zr y Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Encere el horno del HIP del sínter de la tarifa el 98% de la colección para el acero inoxidable/la precisión de cerámica

Nombre: Horno de la cadera del sínter

Tarifa de la salida del vacío: 1Pa/h, 2Pa/h, 3Pa/h

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Barra horizontal de la presión de funcionamiento máxima del horno de la piezosinterización de gas del diseño 60

Nombre: Horno de la piezosinterización de gas

Presión de funcionamiento máxima (barra): 60

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Horno del alto vacío

Accesorios del horno de sinterización

Horno de carburo de silicio

Máquina de capa del CVD

Horno del vacío de la capacidad grande para las especificaciones RDE-GWL-5518 del tratamiento térmico

Horno industrial horizontal del vacío con los elementos de calefacción cilíndricos de la estructura

Tarifa horizontal automatizada el 1/2/3Pa/H de la salida del vacío del horno del vacío del control

El teléfono supervisó la tarifa da alta temperatura 3Pa/H de la salida del vacío del horno del vacío

1500C CVD SIC horno de crecimiento epitaxi para el crecimiento de carburo de silicio en 1000 * 1000 * 1500mm espacio efectivo

Horno CVD con recubrimiento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizable con temperatura de proceso de 700-1050 oC

Horno de recubrimiento por deposición química de vapor para herramientas de corte de carburo de tungsteno/cementado

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≤ industrial modificado para requisitos particulares ±5°C de la variación de la temperatura del horno de sinterización del diseño

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Horno de sinterización fácil de usar del vacío de la cerámica para el carburo cementado

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