Máquina de capa del CVD

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

Temperatura de trabajo máxima ((°C): 1300

Uniformidad de la temperatura ((°C): ≤ ± 7

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

Zona de calefacción: 4pcs/5pcs

Temperatura máxima:: 1100℃

Reactor: 2 piezas

Temperatura máxima:: 1100℃

Reactor: 2 piezas

Temperatura máxima:: 1100℃