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Máquina de capa del CVD

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Horno de aluminización de vapor químico 900-1050C personalizable con codificación Hf Zr y Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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AICL3 Precursores Horno de deposición de vapor químico para herramientas de corte a una temperatura de proceso de 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Equipo de proceso de recubrimiento a alta temperatura con precursores y gases de proceso TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias químicas en el tratamiento de las sustancias químicas no incluye el uso de

Substratos de recubrimiento: El metal, la cerámica, el vidrio, etc.

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Un buen precio. Cuarto de recubrimiento de aleación de temperatura Resistencia eléctrica de calentamiento Horno CVD para sustratos metálicos o cerámicos de tamaño personalizable en línea El video

Cuarto de recubrimiento de aleación de temperatura Resistencia eléctrica de calentamiento Horno CVD para sustratos metálicos o cerámicos de tamaño personalizable

Método de recubrimiento: Deposición química de vapor (CVD)

Potencia total: Aproximadamente 40/50/60/80KW

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Un buen precio. cámara de recubrimiento de aleación de alta temperatura máquina de recubrimiento por deposición química de vapor para herramienta de corte de carburo de tungsteno en línea El video

cámara de recubrimiento de aleación de alta temperatura máquina de recubrimiento por deposición química de vapor para herramienta de corte de carburo de tungsteno

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias químicas en el tratamiento de las sustancias químicas no incluye el uso de

Tamaño del equipo de recubrimiento: Personalizable

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Un buen precio. Máquina de recubrimiento CVD de resistencias eléctricas para recubrimiento a altas temperaturas hasta 1000 °C Proyecto chino y llave en mano en línea El video

Máquina de recubrimiento CVD de resistencias eléctricas para recubrimiento a altas temperaturas hasta 1000 °C Proyecto chino y llave en mano

Potencia total: Aproximadamente 40/50/60/80KW

Substratos de recubrimiento: El metal, la cerámica, el vidrio, etc.

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Un buen precio. Máquina avanzada de recubrimiento CVD para sustrato cerámico Adhesión de recubrimiento fuerte Potencia total Aproximadamente 40/50/60/80KW en línea El video

Máquina avanzada de recubrimiento CVD para sustrato cerámico Adhesión de recubrimiento fuerte Potencia total Aproximadamente 40/50/60/80KW

Substratos de recubrimiento: El metal, la cerámica, el vidrio, etc.

Adhesión del revestimiento: Es fuerte.

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Horno de recubrimiento CVD cerámico Honeycomb para temperatura de proceso de 700-1050C y neutralizar gas fuera de opción

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de revestimiento CVD con rueda de sellado en rodillo con precursores de CO y distribuidor de gas de segunda etapa

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de recubrimiento por deposición química de vapor para herramientas de corte de carburo de tungsteno/cementado

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno avanzado de deposición de vapor CVD/CVI para recubrimiento de TiC TiN TiCN a-AL2O3 y K-AI2O3 a una temperatura de proceso de 700-1050 °C

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Horno de vacío de laboratorio Cvd de deposición de vapor químico

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Horno CVD con recubrimiento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizable con temperatura de proceso de 700-1050 oC

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Horno CVI de carbono pirolítico grande vertical carga superior/inferior con temperatura de trabajo máxima de 1300 °C

Temperatura de trabajo máxima ((°C): 1300

Uniformidad de la temperatura ((°C): ≤ ± 7

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Un buen precio. HTCVD CVD de carburo de silicio SIC horno de crecimiento epitaxi zonas de control de temperatura múltiples en línea El video

HTCVD CVD de carburo de silicio SIC horno de crecimiento epitaxi zonas de control de temperatura múltiples

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

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