2026-10-09
El nitruro de aluminio (AlN) es un cristal dominado por enlaces covalentes, un nitruro hexagonal similar a un diamante.que lo clasifica como semiconductor de banda directaSu estructura cristalina se asemeja a la de BeO y SiC. Debido a la naturaleza altamente direccional de sus enlaces covalentes,AlN ofrece propiedades físicas y químicas excepcionales, como una alta conductividad térmica.
La deposición química por vapor (CVD) es una vía eficaz para producir polvo de AlN con tamaño de partícula uniforme, alta pureza y gran superficie específica.Se introducen compuestos volátiles de origen de aluminio (halogenuros de aluminio o alquilaluminio) y amoníaco (NH3) en la cámara de reacción para reaccionarDurante la reacción, el NH3 se descompone para suministrar átomos de nitrógeno activo, y se forma polvo de AlN a través de la deposición en fase gaseosa.
Las ventajas de este método incluyen la alta pureza del producto y el tamaño de las partículas finas.El alquilaluminio es costoso y requiere almacenamiento y transporte especiales bajo protección de gas inerte.Por consiguiente, este proceso se mantiene principalmente en la fase de investigación de laboratorio y aún no se ha industrializado a gran escala.
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