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Un buen precio. Equipo de proceso de recubrimiento a alta temperatura con precursores y gases de proceso TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S en línea El video

Equipo de proceso de recubrimiento a alta temperatura con precursores y gases de proceso TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias químicas en el tratamiento de las sustancias químicas no incluye el uso de

Substratos de recubrimiento: El metal, la cerámica, el vidrio, etc.

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Un buen precio. Máquina de recubrimiento CVD de resistencias eléctricas para recubrimiento a altas temperaturas hasta 1000 °C Proyecto chino y llave en mano en línea El video

Máquina de recubrimiento CVD de resistencias eléctricas para recubrimiento a altas temperaturas hasta 1000 °C Proyecto chino y llave en mano

Potencia total: Aproximadamente 40/50/60/80KW

Substratos de recubrimiento: El metal, la cerámica, el vidrio, etc.

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Un buen precio. Proveedor chino de horno de sinterización por presión de gas a alta temperatura de carburo de tungsteno 1-20MPA en línea El video

Proveedor chino de horno de sinterización por presión de gas a alta temperatura de carburo de tungsteno 1-20MPA

Detalles de empaquetado: Cajas de madera

Tiempo de entrega: 5-6 meses

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Un buen precio. Horno de deposición de vapor de vacío de alta temperatura con un rango máximo de temperatura de 1100 oC en línea El video

Horno de deposición de vapor de vacío de alta temperatura con un rango máximo de temperatura de 1100 oC

Reactor: 2 piezas

Temperatura máxima:: 1100℃

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Un buen precio. Horno de alta temperatura profesional del vacío para no matálico-cerámico/sic el carburo en línea

Horno de alta temperatura profesional del vacío para no matálico-cerámico/sic el carburo

Nombre: Horno de sinterización del vacío de alta temperatura y alto

Especificaciones: RDE-GWL-5518

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Un buen precio. Máquina avanzada de recubrimiento CVD para sustrato cerámico Adhesión de recubrimiento fuerte Potencia total Aproximadamente 40/50/60/80KW en línea El video

Máquina avanzada de recubrimiento CVD para sustrato cerámico Adhesión de recubrimiento fuerte Potencia total Aproximadamente 40/50/60/80KW

Substratos de recubrimiento: El metal, la cerámica, el vidrio, etc.

Adhesión del revestimiento: Es fuerte.

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Un buen precio. Sistema de recubrimiento de vacío de calefacción eléctrica con un grosor de recubrimiento de 5-20um y un peso de carga de 400 kg en línea

Sistema de recubrimiento de vacío de calefacción eléctrica con un grosor de recubrimiento de 5-20um y un peso de carga de 400 kg

Temperatura de capa: 200 a 1050 °C

Sistema de refrigeración: 2 conjuntos de trampas de condensado refrigeradas con agua de alto rendimiento

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Un buen precio. Horno de recubrimiento HT-CVD con alta calidad de recubrimiento y reactor personalizable en línea

Horno de recubrimiento HT-CVD con alta calidad de recubrimiento y reactor personalizable

Temperatura de capa: 200 a 1050 °C

Sistema de refrigeración: 2 conjuntos de trampas de condensado refrigeradas con agua de alto rendimiento

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Un buen precio. cámara de recubrimiento de aleación de alta temperatura máquina de recubrimiento por deposición química de vapor para herramienta de corte de carburo de tungsteno en línea El video

cámara de recubrimiento de aleación de alta temperatura máquina de recubrimiento por deposición química de vapor para herramienta de corte de carburo de tungsteno

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias químicas en el tratamiento de las sustancias químicas no incluye el uso de

Tamaño del equipo de recubrimiento: Personalizable

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Un buen precio. Máquina de recubrimiento CVD de calefacción eléctrica para el carburo de titanio (TiC) y el nitruro de titanio (TiN) en línea

Máquina de recubrimiento CVD de calefacción eléctrica para el carburo de titanio (TiC) y el nitruro de titanio (TiN)

Sistema de control: PLC

Fuente de alimentación: AC380V/50HZ

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Un buen precio. Máquina de recubrimiento de deposición de vapor químico PLC con 2 juegos de trampas de condensado enfriadas con agua en línea

Máquina de recubrimiento de deposición de vapor químico PLC con 2 juegos de trampas de condensado enfriadas con agua

Sistema de refrigeración: 2 conjuntos de trampas de condensado refrigeradas con agua de alto rendimiento

Temperatura de capa: 200 a 1050 °C

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Un buen precio. Máquina de recubrimiento por deposición de vapor químico de 5-20um con temperatura de recubrimiento de 200-1050°C en línea

Máquina de recubrimiento por deposición de vapor químico de 5-20um con temperatura de recubrimiento de 200-1050°C

Tipo de revestimiento: CVD

espesor del revestimiento: 5-20um

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Un buen precio. Máquina de recubrimiento de superficie de calefacción eléctrica con Bronkhost MFC para un control preciso del flujo en línea

Máquina de recubrimiento de superficie de calefacción eléctrica con Bronkhost MFC para un control preciso del flujo

Fuente de alimentación: AC380V/50HZ

Material de recubrimiento: Carburo de titanio (TiC); Nitruro de titanio (TiN); Carbonitruro de titanio (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

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Un buen precio. 0.1-1.0MPa Presión de recubrimiento Máquina de recubrimiento CVD 200-1050°C Temperatura de recubrimiento en línea

0.1-1.0MPa Presión de recubrimiento Máquina de recubrimiento CVD 200-1050°C Temperatura de recubrimiento

Material de recubrimiento: Carburo de titanio (TiC); Nitruro de titanio (TiN); Carbonitruro de titanio (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

Tipo de revestimiento: CVD

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Un buen precio. Máquina de recubrimiento de vacío CVD AC380V/50Hz Fuente de alimentación ±2mbar Uniformidad de la presión de recubrimiento en línea

Máquina de recubrimiento de vacío CVD AC380V/50Hz Fuente de alimentación ±2mbar Uniformidad de la presión de recubrimiento

espesor del revestimiento: 5-20um

Material de recubrimiento: Carburo de titanio (TiC); Nitruro de titanio (TiN); Carbonitruro de titanio (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

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Un buen precio. Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso en línea El video

Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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