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high temperature furnace (475)  Fabricante en línea

TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Revestimientos Horno CVD con control de temperatura entre 700 y 1050 °C

Zona de calefacción: 4pcs/5pcs

Temperatura máxima:: 1100℃

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Un buen precio. RDE Horno de sinterización de carburo de silicio que alcanza la excelencia de temperatura para la desvaxada de caucho y más a 0.5-1 bar Presión en línea El video

RDE Horno de sinterización de carburo de silicio que alcanza la excelencia de temperatura para la desvaxada de caucho y más a 0.5-1 bar Presión

Temperatura: 2200℃

Tamaño de la cámara: El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de ef

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Horno CVD con recubrimiento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizable con temperatura de proceso de 700-1050 oC

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Horno avanzado de deposición de vapor CVD/CVI para recubrimiento de TiC TiN TiCN a-AL2O3 y K-AI2O3 a una temperatura de proceso de 700-1050 °C

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de recubrimiento por deposición química de vapor para herramientas de corte de carburo de tungsteno/cementado

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de recubrimiento CVD cerámico Honeycomb para temperatura de proceso de 700-1050C y neutralizar gas fuera de opción

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de grafitización industrial al vacío para material de carbono

Temperatura de trabajo máxima ((°C): 2500

Vacío final (Pa): 1

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Horno de aluminización de vapor químico 900-1050C personalizable con codificación Hf Zr y Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Período de enfriamiento fácil del horno del moldeo a presión del metal del mantenimiento ≤5h/≤6h/≤8h

Nombre: horno del moldeo a presión del metal

Temporeros de trabajo del máximo: ℃ 1550

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La termal procesa resistencia de arrastramiento del horno de recocido del metal del molibdeno

Detalles de empaquetado: Caja de madera especial

Tiempo de entrega: 5-8 meses

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Prensa de planchar isostática caliente Max Temperature 1600℃ del vacío industrial

nombre: Horno industrial del vacío

Usos: Carburo cementado, precisión de cerámica, acero inoxidable, hierro-bae alloy.ect

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Horno 1MPa AC210V-250V del HIP del carburo cementado para presionar isostático caliente

nombre: Horno del HIP

Presión de trabajo máxima: 10bar

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Horno de recubrimiento CVD de carburo de silicio para el susceptor de grafito o el anillo de grabado

Detalles de empaquetado: Cajas de madera

Tiempo de entrega: Entre 5 y 6 meses

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Un buen precio. HTCVD CVD de carburo de silicio SIC horno de crecimiento epitaxi zonas de control de temperatura múltiples en línea El video

HTCVD CVD de carburo de silicio SIC horno de crecimiento epitaxi zonas de control de temperatura múltiples

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

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