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high vacuum furnace (479)  Fabricante en línea

Un buen precio. La potencia de horno de sinterización del metal del control automático suministra el AC380V±10% 50HZ en línea

La potencia de horno de sinterización del metal del control automático suministra el AC380V±10% 50HZ

Nombre: Horno de sinterización del metal

Ventaja: confiable, sostenible, durable

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Un buen precio. Horno de sinterización modificado para requisitos particulares de la prueba MIM para el proceso ferroso, Titanium de Debinding en línea

Horno de sinterización modificado para requisitos particulares de la prueba MIM para el proceso ferroso, Titanium de Debinding

Temperatura: 2100℃ máximo

Color: Blanco y negro

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Un buen precio. Horno de sinterización fácil de usar del vacío de la cerámica para el carburo cementado en línea

Horno de sinterización fácil de usar del vacío de la cerámica para el carburo cementado

Uso: horno de sinterización

Garantía: 1 año

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Un buen precio. Horno de deposición de vapor de vacío de alta temperatura con un rango máximo de temperatura de 1100 oC en línea El video

Horno de deposición de vapor de vacío de alta temperatura con un rango máximo de temperatura de 1100 oC

Reactor: 2 piezas

Temperatura máxima:: 1100℃

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Un buen precio. Horno CVD con recubrimiento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizable con temperatura de proceso de 700-1050 oC en línea

Horno CVD con recubrimiento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizable con temperatura de proceso de 700-1050 oC

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Un buen precio. Horno de recubrimiento por deposición química de vapor para herramientas de corte de carburo de tungsteno/cementado en línea

Horno de recubrimiento por deposición química de vapor para herramientas de corte de carburo de tungsteno/cementado

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Un buen precio. Alto período de enfriamiento automático del horno de sinterización MIM 300-420min/480min en línea

Alto período de enfriamiento automático del horno de sinterización MIM 300-420min/480min

Nombre: Horno de sinterización MIM

Color: Blanco

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Un buen precio. 6MPA Fuego de sinterización de presión de desvaxado para cermetos No cermetos Precison Semiconductor cerámico Nitruro de silicio en línea El video

6MPA Fuego de sinterización de presión de desvaxado para cermetos No cermetos Precison Semiconductor cerámico Nitruro de silicio

Temperatura: 1550°C a 2 200°C

Carga máxima de carga: Se aplicarán las siguientes medidas:

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Un buen precio. Horno de recubrimiento CVD de carburo de silicio para el susceptor de grafito o el anillo de grabado en línea

Horno de recubrimiento CVD de carburo de silicio para el susceptor de grafito o el anillo de grabado

Detalles de empaquetado: Cajas de madera

Tiempo de entrega: Entre 5 y 6 meses

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Un buen precio. Horno de recubrimiento HT-CVD con alta calidad de recubrimiento y reactor personalizable en línea

Horno de recubrimiento HT-CVD con alta calidad de recubrimiento y reactor personalizable

Temperatura de capa: 200 a 1050 °C

Sistema de refrigeración: 2 conjuntos de trampas de condensado refrigeradas con agua de alto rendimiento

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Un buen precio. 1500C CVD SIC horno de crecimiento epitaxi para el crecimiento de carburo de silicio en 1000 * 1000 * 1500mm espacio efectivo en línea El video

1500C CVD SIC horno de crecimiento epitaxi para el crecimiento de carburo de silicio en 1000 * 1000 * 1500mm espacio efectivo

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

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Un buen precio. Horno avanzado de deposición de vapor CVD/CVI para recubrimiento de TiC TiN TiCN a-AL2O3 y K-AI2O3 a una temperatura de proceso de 700-1050 °C en línea

Horno avanzado de deposición de vapor CVD/CVI para recubrimiento de TiC TiN TiCN a-AL2O3 y K-AI2O3 a una temperatura de proceso de 700-1050 °C

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Un buen precio. Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso en línea

Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Un buen precio. Horno de recubrimiento CVD cerámico Honeycomb para temperatura de proceso de 700-1050C y neutralizar gas fuera de opción en línea

Horno de recubrimiento CVD cerámico Honeycomb para temperatura de proceso de 700-1050C y neutralizar gas fuera de opción

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Un buen precio. Horno de purificación industrial de alta temperatura para materiales de grafito en línea

Horno de purificación industrial de alta temperatura para materiales de grafito

Max.Temperatura de trabajo: 2400℃

Uniformidad de la temperatura: ≤±10℃

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Un buen precio. Horno de aluminización de vapor químico 900-1050C personalizable con codificación Hf Zr y Si en línea

Horno de aluminización de vapor químico 900-1050C personalizable con codificación Hf Zr y Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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