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1500C CVD SIC horno de crecimiento epitaxi para el crecimiento de carburo de silicio en 1000 * 1000 * 1500mm espacio efectivo

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

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Zona de calefacción: 4pcs/5pcs

Temperatura máxima:: 1100℃

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Reactor: 2 piezas

Temperatura máxima:: 1100℃

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Reactor: 2 piezas

Temperatura máxima:: 1100℃

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Temperatura de capa: 200 a 1050 °C

Sistema de refrigeración: 2 conjuntos de trampas de condensado refrigeradas con agua de alto rendimiento

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Sistema de refrigeración: 2 conjuntos de trampas de condensado refrigeradas con agua de alto rendimiento

Temperatura de capa: 200 a 1050 °C

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Temperatura de capa: 200 a 1050 °C

Sistema de refrigeración: 2 conjuntos de trampas de condensado refrigeradas con agua de alto rendimiento

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Tipo de revestimiento: CVD

espesor del revestimiento: 5-20um

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Cámara de la reacción: 2 PCS

Temperatura máxima:: 1100℃

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espesor del revestimiento: 5-20um

Material de recubrimiento: Carburo de titanio (TiC); Nitruro de titanio (TiN); Carbonitruro de titanio (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

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Fuente de alimentación: AC380V/50HZ

Material de recubrimiento: Carburo de titanio (TiC); Nitruro de titanio (TiN); Carbonitruro de titanio (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

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0.1-1.0MPa Presión de recubrimiento Máquina de recubrimiento CVD 200-1050°C Temperatura de recubrimiento

Material de recubrimiento: Carburo de titanio (TiC); Nitruro de titanio (TiN); Carbonitruro de titanio (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

Tipo de revestimiento: CVD

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Un buen precio. Máquina de recubrimiento CVD de calefacción eléctrica para el carburo de titanio (TiC) y el nitruro de titanio (TiN) en línea

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Sistema de control: PLC

Fuente de alimentación: AC380V/50HZ

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