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chemical vapor deposition cvd coating furnace Fabricante en línea

chemical vapor deposition cvd coating furnace (16)  Fabricante en línea

Horno de vacío de laboratorio Cvd de deposición de vapor químico

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Horno de recubrimiento HT-CVD con alta calidad de recubrimiento y reactor personalizable

Temperatura de capa: 200 a 1050 °C

Sistema de refrigeración: 2 conjuntos de trampas de condensado refrigeradas con agua de alto rendimiento

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Horno de recubrimiento CVD cerámico Honeycomb para temperatura de proceso de 700-1050C y neutralizar gas fuera de opción

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de revestimiento CVD con rueda de sellado en rodillo con precursores de CO y distribuidor de gas de segunda etapa

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de recubrimiento por deposición de vapor químico con precursores de TiCL4, AICL3 y gases de proceso

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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Horno de recubrimiento por deposición química de vapor para herramientas de corte de carburo de tungsteno/cementado

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Precursores y gases de proceso: El uso de las sustancias enumeradas en el anexo I del Reglamento (CE) n.o 1907/2006 debe tener en cu

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AICL3 Precursores Horno de deposición de vapor químico para herramientas de corte a una temperatura de proceso de 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Un buen precio. RDE Máquina de recubrimiento de carburo de silicio Horno de deposición de vapor químico CVD en línea El video

RDE Máquina de recubrimiento de carburo de silicio Horno de deposición de vapor químico CVD

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

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Horno de recubrimiento CVD de carburo de silicio para el susceptor de grafito o el anillo de grabado

Detalles de empaquetado: Cajas de madera

Tiempo de entrega: Entre 5 y 6 meses

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Un buen precio. Máquina de recubrimiento CVD de resistencias eléctricas para recubrimiento a altas temperaturas hasta 1000 °C Proyecto chino y llave en mano en línea El video

Máquina de recubrimiento CVD de resistencias eléctricas para recubrimiento a altas temperaturas hasta 1000 °C Proyecto chino y llave en mano

Potencia total: Aproximadamente 40/50/60/80KW

Substratos de recubrimiento: El metal, la cerámica, el vidrio, etc.

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Horno avanzado de deposición de vapor CVD/CVI para recubrimiento de TiC TiN TiCN a-AL2O3 y K-AI2O3 a una temperatura de proceso de 700-1050 °C

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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Un buen precio. Cuarto de recubrimiento de aleación de temperatura Resistencia eléctrica de calentamiento Horno CVD para sustratos metálicos o cerámicos de tamaño personalizable en línea El video

Cuarto de recubrimiento de aleación de temperatura Resistencia eléctrica de calentamiento Horno CVD para sustratos metálicos o cerámicos de tamaño personalizable

Método de recubrimiento: Deposición química de vapor (CVD)

Potencia total: Aproximadamente 40/50/60/80KW

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Un buen precio. China Fabricación de hornos CVD, máquina de recubrimiento de carburo de silicio en línea El video

China Fabricación de hornos CVD, máquina de recubrimiento de carburo de silicio

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

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TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Revestimientos Horno CVD con control de temperatura entre 700 y 1050 °C

Zona de calefacción: 4pcs/5pcs

Temperatura máxima:: 1100℃

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Un buen precio. 1500C CVD SIC horno de crecimiento epitaxi para el crecimiento de carburo de silicio en 1000 * 1000 * 1500mm espacio efectivo en línea El video

1500C CVD SIC horno de crecimiento epitaxi para el crecimiento de carburo de silicio en 1000 * 1000 * 1500mm espacio efectivo

Espacio efectivo en mm: 1000*1000*1500

Potencia de calefacción (KVA): 300

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Horno CVD con recubrimiento de TiC/TiN/TiCN/Al2O3 personalizable con temperatura de proceso de 700-1050 oC

Temperatura del proceso (°C): 700 a 1050 años

Tipos de recubrimiento: Se aplican las siguientes medidas:

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